■书系概况

《设计与艺术研究》是由中央美术学院设计研究所出品的设计与艺术学科、文化创意产业研究类书系。定位于设计与艺术领域的青年思想读本。志在鼓励年轻的设计师、艺术家和教师更深层次的思考设计与艺术之于当下社会的积极内涵，促进产、学、研之有效结合。

■征集范围

设计类、艺术类文论和创作作品；企业投产上市之产品 

■文稿与作品要求

文稿类

1撰文要求：文稿（含论文）立意或立论新颖，具备一定的理论前瞻性或现实指导意义。逻辑严谨，数据精确，资料翔实，文法通顺。论文要求文献引注规范。

2字数限制：文稿3500－5000字。包含图表、摘要、引用文献等。

3作者信息：姓名、工作单位、职位（职称）、主要研究（职责）方向、通讯地址、邮编、联系电话及电子信箱。

4作者简介：主要包括教育背景，职业履历，主要获奖或者职业绩效，近期生活照1－2张等。

5知识产权声明：文稿著作权属于作者，相关文责自负。

创作作品、产品类

1作品权属：作者须签署声明，以保证发表之作品系作者原创，并拥有作品全部知识产权。或提供相应授权证明，享有该作品处置权。所有第三方针对该作品之法律责任，概由作者本人承担。

2作品规格：请作者提供作品电子文件，格式为TIFF和JPG，分辨率不小于300dpi。每位作者可发布至多5张作品。

3作品信息：请作者提供WORD文件（不超过300字），清晰标注作品名称，相关数据，设计项目概况（含委托客户或课题名称），创意说明，制作软件等。

4作者信息：姓名、工作单位、职位（职称）、主要研究（职责）方向、通讯地址、邮编、联系电话及电子信箱。

5作者简介：主要包括教育背景，职业履历，主要获奖或者职业绩效，近期生活照1－2张等。

6知识产权声明：作品著作权属于作者，相关知识产权责任自负。

7作品通过评审采用后，编辑部将对作者进行书面访谈，与作品同步发表。

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